一、引言
       在包括請求書、權(quán)利要求書、說明書(必要時應(yīng)當(dāng)有附圖)及其摘要等一系列文件的專利申請文件中，權(quán)利要求書作為法律文件之一無疑起著非常重要的作用。權(quán)利要求書本質(zhì)的作用之一在于確立專利權(quán)的保護(hù)范圍，無論是專利的代理、審查、推廣，還是在無效宣告及侵權(quán)訴訟等程序中，都是以權(quán)利要求書所提出的技術(shù)方案為基礎(chǔ)[1]。由此可以看出，撰寫出高質(zhì)量的權(quán)利要求書對于專利新申請是十分重要的[2]。有質(zhì)量的專利就是有效的專利，而對專利質(zhì)量的評價主要分為技術(shù)評價、法律評價和市場評價三個指標(biāo)。通過專利申請文件撰寫的技巧，能夠?qū)δ承＠|(zhì)量指標(biāo)進(jìn)行改進(jìn)。

       專利的保護(hù)范圍由權(quán)利要求進(jìn)行限定，而權(quán)利要求的限定具有廣度與深度兩個維度，一項權(quán)利要求本身的保護(hù)范圍，更多的是體現(xiàn)廣度，一項專利或其申請中權(quán)利要求數(shù)量的多少，體現(xiàn)了申請人在深度這一維度的策略性布局。

二、專利申請權(quán)利要求書的概述
      《專利法》第59條第1款規(guī)定:發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容[3]。因此，權(quán)利要求書是確定專利權(quán)保護(hù)范圍的依據(jù)，也是判斷他人是否侵權(quán)的依據(jù)。

       權(quán)利要求書和權(quán)利要求是兩個不同的概念，不能混淆，更不能簡單的劃等號。權(quán)利要求書是專利申請人為獲取專利權(quán)而撰寫并向?qū)＠姓块T提交的一項重要文件。權(quán)利要求則是指權(quán)利要求書中記載的具體的技術(shù)特征，一項權(quán)利要求書中可以包含多個權(quán)利要求。權(quán)利要求書是權(quán)利要求的載體。

        專利申請獲得授權(quán)后，權(quán)利要求是作為限定專利保護(hù)范圍的依據(jù)，其對專利的概括程度與專利保護(hù)范圍的大小有密切關(guān)系。為了充分保護(hù)申請人的利益，權(quán)利要求應(yīng)能夠謀求盡可能大的保護(hù)范圍。一般而言，權(quán)利要求數(shù)量越多，專利的保護(hù)范圍越大，說明專利的原創(chuàng)性越高，專利質(zhì)量也越高，同時遭遇侵權(quán)和訴訟的頻率也越高[4]。

三、關(guān)于專利申請權(quán)利要求書的撰寫

        權(quán)利要求的撰寫有多種撰寫方式，應(yīng)當(dāng)要和技術(shù)交底材料的內(nèi)容相適應(yīng)[5]。

1.撰寫前排除明顯不能獲得專利保護(hù)的主題

       撰寫以前，首先要排除不符合《專利法》第2條有關(guān)發(fā)明或者實用新型的定義的主題，排除明顯屬于《專利法》第5條或者第25條不能授予專利權(quán)的客體，排除明顯不符合《專利法》第22條第4款有關(guān)實用性規(guī)定的主題。

2. 撰寫要求

       （1）權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)包括獨立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求（《專利法實施細(xì)則》第20條第1款）。

       （2）獨立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求：①在合理的前提下具有較寬的保護(hù)范圍，能夠最大限度地體現(xiàn)申請人的而利益；②清楚簡明地限定其保護(hù)范圍（《專利法》第26條第4款）；③記載解決技術(shù)問題的全部必要技術(shù)特征（《專利法實施細(xì)則》第20條第2款）；④對于現(xiàn)有技術(shù)具備新穎性和創(chuàng)造性（《專利法》第22條第2款、第3款）；⑤符合《專利法》及《專利法實施細(xì)則》關(guān)于獨立權(quán)利要求的其他規(guī)定。

        （3）從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求：①從屬權(quán)利要求的數(shù)量適當(dāng)、合理；②與被引用的權(quán)利要求之間有清楚的邏輯關(guān)系（《專利法》第26條第4款、《專利法實施細(xì)則》第22條）；③當(dāng)授權(quán)后面臨不得不縮小權(quán)利要求保護(hù)范圍的情況時，能提供充分的修改余地；④符合《專利法》及《專利法實施細(xì)則》關(guān)于從屬權(quán)利要求的其他規(guī)定。

        （4）撰寫多個獨立權(quán)利要求的，多個獨立權(quán)利要求之間應(yīng)當(dāng)具有單一性。

3. 權(quán)利要求撰寫的方式

（1）不考慮概括的撰寫方式

        撰寫的核心任務(wù)是找到技術(shù)交底材料中的區(qū)別技術(shù)特征，并圍繞區(qū)別技術(shù)特征撰寫權(quán)利要求書，將起到基礎(chǔ)、根本作用的區(qū)別技術(shù)特征作為發(fā)明點。技術(shù)交底材料如果針對發(fā)明點只有一個實施例，一般不需要考慮對實施例的概括。

1）不需要對多個實施例的概括情形

        以下幾種情況，一般不需要對涉及同一技術(shù)內(nèi)容幾個實施方式進(jìn)行概括：①如果技術(shù)交底材料只給出一個技術(shù)主題之下的一個實施例的情況，一般不進(jìn)行上位概括或者功能性概括；②如果技術(shù)交底材料給出了多個實施例，但是多個實施例的之間為主從關(guān)系，可針對基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求（不需要概括），而將其他幾種結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品作為該獨立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求撰寫；③如果交底材料中明確給出了上位或者功能概括的方式，也不需要考慮多個實施例的概括問題。

2）權(quán)利要求不需要概括的情形下的撰寫步驟

         針對不需要概括的權(quán)利要求，通過以下6個步驟撰寫：

         第一步：技術(shù)特征分析。第一步技術(shù)特征分析中包括兩個方面：列出全部技術(shù)特征；分析技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系。

         第二步：找發(fā)明點。找發(fā)明點的步驟中包括兩個方面：技術(shù)對比，找出區(qū)別技術(shù)特征；在區(qū)別技術(shù)特征中確定發(fā)明點。

         第三步：確定所要解決的技術(shù)問題。在第三步中，應(yīng)當(dāng)根據(jù)第二步中確定的發(fā)明點所產(chǎn)生的技術(shù)效果，與最接近的現(xiàn)有技術(shù)對比，確定發(fā)明所要解決的技術(shù)問題。

         第四步：確定必要技術(shù)特征。必要技術(shù)特征是解決最根本技術(shù)問題必不可少的特征，實際產(chǎn)品必不可少的特征不一定是必要技術(shù)特征。

         第五步：撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在第四步確定必要技術(shù)特征的基礎(chǔ)上，完成獨立權(quán)利要求的撰寫。獨立權(quán)利要求的撰寫分為兩個方面：①確定主題名稱。主題名稱一般限于技術(shù)交底材料提供的產(chǎn)品或者方法的名稱，主題名稱一般不需要概括。主題名稱注意不要出現(xiàn)區(qū)別特征；② 對必要技術(shù)特征在語言上進(jìn)行調(diào)整。將第四步確定的必要技術(shù)特征進(jìn)行組合，與最接近的現(xiàn)有技術(shù)做比較，將它們共同的必要技術(shù)特征寫入獨立權(quán)利要求的前序部分，區(qū)別于最接近現(xiàn)有技術(shù)的必要技術(shù)特征寫入特征部分。

          第六步：撰寫從屬權(quán)利要求。對其他附加技術(shù)特征進(jìn)行分析，將那些對申請創(chuàng)造性會起作用的附加技術(shù)特征寫成相應(yīng)的從屬權(quán)利要求。如果從屬權(quán)利要求的數(shù)目不多，現(xiàn)有技術(shù)的特征也可以寫入從屬權(quán)利要求中。

（2）多個實施例的概括撰寫方式

          如果針對發(fā)明點有兩個以上的實施例，盡可能將其共性在一個權(quán)利要求中進(jìn)行概括。

1）多個實施例需要概括的判斷

        對于具有多種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品權(quán)利要求而言，在撰寫權(quán)利要求時，首先應(yīng)當(dāng)分析這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品之間的關(guān)系：

        ①多個實施例的改進(jìn)之間為主從關(guān)系；②多個實施例為并列改進(jìn)，各改進(jìn)方案之間具有相同的構(gòu)思。a.多個實施例可以進(jìn)行概括。如果這些不同結(jié)構(gòu)產(chǎn)品之間是并列的、且滿足單一性要求的技術(shù)方案，則應(yīng)當(dāng)盡可能對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品采用概括方式（上位概括或者功能性概括）的技術(shù)特征加以描述，從而將這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品都納入獨立權(quán)利要求中；在此基礎(chǔ)上再分別針對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的區(qū)別撰寫相應(yīng)的從屬權(quán)利要求；b.多個實施例無法進(jìn)行概括，可以分別針對這些具有不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求：③多個實施例為并列改進(jìn)，各改進(jìn)方案之間不具有單一性。如果幾種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品是并列的技術(shù)方案，且彼此之間不屬于一個總的發(fā)明構(gòu)思，則只能分別在兩件專利申請中以獨立權(quán)利要求方式撰寫。

2）需要概括的權(quán)利要求的撰寫步驟

        針對需要概括的權(quán)利要求，仍然通過前面介紹的6步法進(jìn)行撰寫，在第4步確定必要技術(shù)特征時，需要對多個實施例的共同點進(jìn)行概括。

        對于針對發(fā)明點有兩個以上并列實施例的，可以通過以下方式概括：①功能性概括，采取具有……的功能的裝置/部件/結(jié)構(gòu)的概括方式；②功能性概括，但是不出現(xiàn)部件名稱，而是直接以功能代替具體結(jié)構(gòu)；③上位概括，采取部件的上位名稱代替具體部件；④上位概括，不出現(xiàn)上位名稱，而是用省略具體結(jié)構(gòu)的方式表述。

（3）并列發(fā)明點的寫法

       如果最根本的區(qū)別特征有兩個或者兩個以上，則屬于并列發(fā)明點。

        1）并列發(fā)明點的判斷。出現(xiàn)以下情形時，需要考慮并列發(fā)明點獨立權(quán)利要求的布局問題：①技術(shù)交底材料中明確給出了發(fā)明所要解決的多個最根本的技術(shù)問題，多個根本的技術(shù)問題是并列的，無依存或者主從關(guān)系，實施方式之間也沒有相同構(gòu)思；②雖然技術(shù)交底材料中只有一個最根本所要解決的技術(shù)問題，但是有多個實施方式，多個實施方式之間不具有相同的構(gòu)思，無法進(jìn)行概括，撰寫為多個并列的獨立權(quán)利要求又不具有單一性。

         2）并列發(fā)明點的布局方式。對于技術(shù)交底材料有多個發(fā)明點的撰寫，首先在第一件專利申請中，技術(shù)交底材料給出的技術(shù)內(nèi)容都要寫入到權(quán)利要求中。這時，第二個發(fā)明可能會寫為從屬權(quán)利要求。但是為了充分的保護(hù)發(fā)明創(chuàng)造，還需要針對第二個發(fā)明點撰寫成另一項獨立權(quán)利要求及其相應(yīng)的從屬權(quán)利要求，并建議委托人在同日另行提出一件專利申請。

       3）撰寫步驟。并列發(fā)明點的撰寫與前面介紹的6步法基本相同，只是多了一個步驟7。在第二步確定發(fā)明點時發(fā)現(xiàn)有兩個或者兩個以上并列發(fā)明點時，在第五步撰寫?yīng)毩?quán)利要求先以第一個發(fā)明點為核心撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在步驟7中，以第二個發(fā)明點為核心再撰寫第一個獨立權(quán)利要求。

（4）并列主題

         如果技術(shù)交底材料中出現(xiàn)了產(chǎn)品、制造方法、化學(xué)成分、配套的設(shè)備等內(nèi)容，則考慮為并列主題。對于每一個主題，都需要寫成并列獨立權(quán)利要求。如果技術(shù)交底書給出發(fā)明創(chuàng)造的若干技術(shù)主題，則首先要確定技術(shù)主題，在每個技術(shù)主題下，分別按照6步法進(jìn)行撰寫。

1）判斷技術(shù)主題的類型及數(shù)量

          在閱讀技術(shù)交底書的過程中，首先應(yīng)當(dāng)判斷出技術(shù)交底書中描述的技術(shù)主題的類型，是產(chǎn)品還是方法？如果技術(shù)交底材料中涉及多個技術(shù)主題，在技術(shù)特征分析后，通過特定技術(shù)特征的比較確定多個主題之間是否具有單一性。對于不具有單一性的并列技術(shù)主題，需要撰寫另案申請的權(quán)利要求。

2）并列獨立權(quán)利要求的撰寫方式。并列獨立權(quán)利要求有兩種撰寫方式：①引用式并列獨立權(quán)利要求，例如，多個獨立權(quán)利要求寫為：

            “1.一種XX設(shè)備，其特征在于，包括ABCD。

2.一種使用如權(quán)利要求1所述XX設(shè)備的方法，其特征在于：A’B’C’D’”

3.一種YY設(shè)備，其特征在于：將權(quán)利要求1所述的XX設(shè)備與M設(shè)備連接起來?！?

           引用式撰寫方式一般用于相互有專屬配合關(guān)系的獨立權(quán)利要求。

②相互不引用的獨立權(quán)利要求，例如，多個獨立權(quán)利要求寫為：

            “ 1.一種XX設(shè)備，其特征在于，包括ABCD。

2.一種XX方法，其特征在于，包括A’B’C’D’?！?

四、權(quán)力要求書撰寫注意事項

1.從創(chuàng)造性的角度看

         為滿足發(fā)明專利的創(chuàng)造性，在申請文件撰寫中需注意：充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)、權(quán)利要求撰寫要提煉發(fā)明點、說明書撰寫應(yīng)證明發(fā)明創(chuàng)造性的證據(jù)。

（1）充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)

          一般而言，專利發(fā)明人在研發(fā)過程中已經(jīng)對先期技術(shù)有了一定的檢索和了解，然而在專利撰寫過程中仍有必要進(jìn)一步全面檢索，并深入分析現(xiàn)有技術(shù)，看在研發(fā)過程中是否有相關(guān)文獻(xiàn)披露，是否仍然對現(xiàn)有技術(shù)具有貢獻(xiàn)點，這不僅讓撰寫者更全面和客觀地理解現(xiàn)有技術(shù)，更能讓撰寫者明白專利申請相對現(xiàn)有技術(shù)的改進(jìn)之處即發(fā)明點，這有利于后續(xù)的權(quán)利要求書和說明書撰寫中對核心內(nèi)容的把握。

（2）權(quán)利要求撰寫應(yīng)提煉發(fā)明點

         權(quán)利要求書是申請人對所保護(hù)的技術(shù)內(nèi)容和保護(hù)范圍給出清楚、準(zhǔn)確限定的法律文件，是發(fā)明專利申請文件中最重要的組成部分。權(quán)利要求的撰寫應(yīng)注意表達(dá)具有創(chuàng)造性的發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容與范圍，在撰寫中需提煉發(fā)明點，即為專利申請的技術(shù)帶來創(chuàng)造性的技術(shù)特征或者技術(shù)特征的組合。一般情況下，建議專利申請人在撰寫時對說明書中的技術(shù)方案進(jìn)行合理有度的概括，不要一味追求大的保護(hù)范圍而過度地抽象概括，使方案本身發(fā)生畸變，從而影響對整個方案的理解和技術(shù)性的判斷，為其后續(xù)審查以及專利申請人的利益帶來不必要的麻煩。

2.從獨立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求的角度看

（1）獨立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求的關(guān)系

          權(quán)利要求書是申請人對技術(shù)方案中的技術(shù)特征用法律語言進(jìn)行的描述，也是授權(quán)后專利保護(hù)的技術(shù)范圍，它分為獨立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求。獨立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映技術(shù)方案的主要內(nèi)容，應(yīng)包含全部必要技術(shù)特征，可以獨立存在。在一份權(quán)利要求書中，獨立權(quán)利要求主題的類型必須是明確的，或是方法獨立權(quán)利要求，或是產(chǎn)品獨立權(quán)利要求，而不能在一個獨立權(quán)利要求中既包括方法又包括產(chǎn)品。從屬權(quán)利要求是對其獨立權(quán)利要求的補充限定，限定的技術(shù)特征一定 是已經(jīng)出現(xiàn)于在前的權(quán)利要求中。獨立權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)寬，主要是起到專利“進(jìn)攻”的作用；而從屬權(quán)利要求則是對獨立權(quán)利要求進(jìn)行補充限定，起到專利 “防守”的作用。所以，一個好的權(quán)利要求書中應(yīng)當(dāng)有獨立權(quán)利要求和多個從屬權(quán)利要求。

（2）獨立權(quán)利要求保護(hù)范圍的“度”的把握

         雖然獨立權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)寬，但并不是越寬越好，應(yīng)該有一個度的把握。在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時切勿將權(quán)利要求寫得較為寬泛，特別是實用新型專利的權(quán)利要求書，獨立權(quán)利要求的范圍太寬，所涵蓋的必要技術(shù)特征過多，可能會涉及他人專利已有的技術(shù)特征，使權(quán)利不穩(wěn)定，易于被他人宣告無效。同時獨立權(quán)利要求的范圍太寬，也容易導(dǎo)致與公知技術(shù)發(fā)生沖突，遭遇公知技術(shù)抗辯。

（3）獨立權(quán)利要求切忌寫入非必要技術(shù)特征

      必要技術(shù)特征是指生產(chǎn)產(chǎn)品時技術(shù)上必不可少的技術(shù)特征，獨立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映出發(fā)明全部的必要技術(shù)特征，把非必要技術(shù) 特征寫入獨立權(quán)利要求，將導(dǎo)致專利保護(hù)范圍過窄，使專利的保護(hù)陷入被動，很難指控他人侵權(quán)。

（4）對權(quán)利要求書的自查和優(yōu)化選擇

         在撰寫?yīng)毩?quán)利要求后，應(yīng)該從技術(shù)問題和技術(shù)效果的角度進(jìn)行自查，獨立權(quán)利要求中的技術(shù)問題和技術(shù)效果應(yīng)相互對應(yīng)，盡量刪除不必要的用語和限制。在對從屬權(quán)利要求進(jìn)行自查時，應(yīng)審視從屬權(quán)利要求是否盡可能引用了獨立權(quán)利要求，是否附加技術(shù)特征，是否對其獨立權(quán)利要求進(jìn)行補充限定，二者之間的層次是否相差過大。對同一項發(fā)明申請，申請人可以撰寫幾個不同的權(quán)利要求書進(jìn)行比較，因為要達(dá)到既符合國家專利局形式審查和實質(zhì)審查的要求，又能恰到好處地保護(hù)申請人的利益是很不容易的，多撰寫幾個權(quán)利要求書，有利于申請人在反復(fù)比較過程中確定一個相對合理的方案。

         另外，從屬權(quán)利要求的保護(hù)范圍比其引用的獨立權(quán)利要求的保護(hù)范圍窄，所以獨立權(quán)利要求如果能夠滿足新穎性和創(chuàng)造性的要求的話，從屬權(quán)利要求也同樣能夠滿足這一條件。從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)具有新穎性和創(chuàng)造性，因為從屬權(quán)利要求包含了獨立權(quán)利要求中所有的技術(shù)特征，并增加了一些新的限定特征[6]。

3.從權(quán)利要求的數(shù)量來看

           將獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到需要注意：（1）獨立權(quán)利要求的數(shù)量：數(shù)量越多越能從不同角度如產(chǎn)品和方法上對技術(shù)進(jìn)行充分保護(hù)；（2）從屬權(quán)利要求的數(shù)量：數(shù)量越多越能對抗他人申請同樣或類似的專利，從而與獨立權(quán)利要求共同構(gòu)成完整的權(quán)利保護(hù)體系；（3）獨立權(quán)利要求中相對于現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別特征的數(shù)量：在專利技術(shù)創(chuàng)造性確定的情況下，撰寫的獨立權(quán)利要求中區(qū)別特征數(shù)量越多，一般會導(dǎo)致專利保護(hù)范圍越小[6]。在符合“清楚”要求的前提下，專利申請獨立權(quán)利要求的撰寫比較上位或者比較概括，專利的保護(hù)范圍就較寬，如果寫得過于具體或加進(jìn)了非必要技術(shù)特征，則專利權(quán)利范圍變小。但也不能認(rèn)為撰寫得越上位越好，其原因是獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征過于上位會導(dǎo)致權(quán)利要求的不支持，無法有效對抗他人的無效宣告請求，降低專利的穩(wěn)定性，以至于專利質(zhì)量同樣會受到影響。因此，只有將獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到好處才算合理。

五、品源律師觀點
         從提高專利質(zhì)量的角度來說，需要從源頭上規(guī)范申請人的申請行為，不能僅僅要求專利申請的數(shù)量或者授權(quán)專利的數(shù)量，而是要從權(quán)利要求的布局撰寫過程中提高專利的質(zhì)量。

參考文獻(xiàn)

[1] 王澄. 機械領(lǐng)域發(fā)明專利申請文件撰寫與答復(fù)技巧[M].知識產(chǎn)權(quán)出版社, 2012.

[2] 李寧馨, 張艷, 蔣碧珠. 從提高專利質(zhì)量的角度看如何撰寫專利申請文件[J].中國發(fā)明與專利, 2013(3):61-63.

[3] 中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局,制定.專利審查指南[M].知識產(chǎn)權(quán)出版社, 2010.

[4] 陳朝陽. 從權(quán)利要求數(shù)量看中外申請人的專利策略[J].發(fā)明與創(chuàng)新(大科技), 2013(6).

[5] 韓龍. 專利代理實務(wù)講座教程及歷年試題解析[M]. 國防工業(yè), 2015.

[6] 程永順：《專利糾紛與處理》，北京：知識產(chǎn)權(quán)出版社，2006年版。

[6] 陳朝陽. 從權(quán)利要求數(shù)量看中外申請人的專利策略[J]. 發(fā)明與創(chuàng)新(大科技), 2013(6).