在判斷一項權(quán)利要求是否因修改超范圍應被宣告無效時，本文作者認為，應站位本領(lǐng)域技術(shù)人員對發(fā)明進行全面而準確的理解，據(jù)此合理確定權(quán)利要求的內(nèi)容，進而判斷其是否引入了新的技術(shù)內(nèi)容。本文作者結(jié)合案例對權(quán)利要求的理解在修改是否超范圍判斷中的考量進行了分析，一起來看看。

　【弁言小序】

     專利制度存在的意義在于鼓勵發(fā)明創(chuàng)造，為科技進步保駕護航，對于專利申請文件的修改進行限制，其根本目的是避免申請人通過修改引入不屬于其申請日之前所作出的技術(shù)內(nèi)容，從而侵占公眾和他人利益，擾亂社會和經(jīng)濟秩序，打擊發(fā)明創(chuàng)造的積極性。

     無效程序作為專利保護制度中的一個環(huán)節(jié)，應充分發(fā)揮其確權(quán)作用，在判斷一項權(quán)利要求是否因修改超范圍應被宣告無效時，應站位本領(lǐng)域技術(shù)人員對發(fā)明進行全面而準確的理解，據(jù)此合理確定權(quán)利要求的內(nèi)容，進而判斷其是否引入了新的技術(shù)內(nèi)容，不能僅根據(jù)文字的表面含義，作出脫離發(fā)明本身技術(shù)要求的判斷。

　【理念闡述】

     各國專利法都允許對專利申請文件進行修改，但同時對修改范圍、時機、方式進行了限制，其目標是實現(xiàn)申請人（或者專利權(quán)人）的利益與社會公眾利益之間的平衡：一方面使申請人擁有修改和補正專利申請文件的機會，盡可能保證真正有創(chuàng)造性的發(fā)明創(chuàng)造能夠取得授權(quán)和獲得保護，另一方面又防止申請人對其在申請日時未公開的發(fā)明內(nèi)容獲得不正當利益，損害社會公眾對原專利申請文件的信賴。

     我國專利法第三十三條的立法本意是避免申請人在申請日之后引入新的技術(shù)信息，在我國先申請制度下，搶占在先申請日的便利。對修改是否超范圍的判斷通常分三個步驟，第一步確定原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍，第二步確認修改后申請文件或?qū)＠募械募夹g(shù)內(nèi)容，第三步判斷修改后的技術(shù)內(nèi)容與原申請文件相比是否增加了新的技術(shù)信息。

     當修改涉及到權(quán)利要求書時，由于權(quán)利要求書主要是用于確定發(fā)明獲得法律保護范圍的文件，因此判斷權(quán)利要求書的修改是否超范圍時，其實質(zhì)是判斷修改后權(quán)利要求書中體現(xiàn)出的欲獲得專利保護的技術(shù)方案，相較于原申請文件記載的范圍，是否增加了新的技術(shù)信息。此時，對于修改后的權(quán)利要求書，不能簡單地認為其文字直觀體現(xiàn)的技術(shù)方案即為其保護的技術(shù)方案，而是應該結(jié)合專利法的相關(guān)規(guī)定，確認權(quán)利要求的保護范圍。

     如何確定權(quán)利要求的保護范圍，在確定權(quán)利要求保護范圍時是否需要考慮說明書的內(nèi)容一直以來都存在爭論，并形成了以英美為代表的周邊限定說以及以德國為代表的中心限定說兩種學說。我國采用了與歐洲專利公約類似的折中原則，專利法第五十九條明確規(guī)定：發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的保護范圍以權(quán)利要求的內(nèi)容為準，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容?？梢娢覈鴱牧⒎ㄉ弦?guī)定了說明書對于權(quán)利要求保護內(nèi)容具有解釋作用。從專利申請文件或?qū)＠募男纬蛇^程來看，說明書通常最早形成，是發(fā)明人抽象技術(shù)構(gòu)思的文字化載體，包含了理解和實現(xiàn)發(fā)明創(chuàng)造的全部內(nèi)容，權(quán)利要求書是在說明書公開內(nèi)容的基礎(chǔ)上，提煉的發(fā)明創(chuàng)造的核心內(nèi)容，可見說明書是權(quán)利要求書形成的環(huán)境和土壤。無論是從法律規(guī)定角度還是權(quán)利要求書與說明書關(guān)系的角度來說，都不宜將權(quán)利要求書與說明書割裂，孤立地判斷權(quán)利要求書的保護范圍。

     具體而言，說明書是對發(fā)明創(chuàng)造最完整、最詳細的闡述，其不僅記載了實現(xiàn)發(fā)明創(chuàng)造的全部內(nèi)容，還記載了發(fā)明創(chuàng)造產(chǎn)生的背景。而權(quán)利要求書通常僅記載發(fā)明創(chuàng)造對于現(xiàn)有技術(shù)的改進點，并且需要使用更加概括、抽象、簡練的語言。文字是一種簡單的工具，其表達往往存在缺陷，尤其是對權(quán)利要求中概括、抽象的文字表述，必須放到其產(chǎn)生背景的語境和前提下才能理解其真實意圖，避免歧義與誤解。因此，判斷權(quán)利要求的保護范圍，不應局限于全盤機械地接收文字表意內(nèi)容，而應站位于本領(lǐng)域技術(shù)人員，結(jié)合說明書中記載的內(nèi)容，合理客觀地確定權(quán)利要求所要保護的技術(shù)方案。

　【案例演繹】

     涉案專利為國際專利申請（PCT申請），涉及一種帶和胎面鼓。其進入中國國家階段后，公開文本中權(quán)利要求1中某技術(shù)特征的表述為“支承體都從徑向內(nèi)側(cè)設(shè)置在支承件內(nèi)”，經(jīng)實質(zhì)審查后，授權(quán)公告的權(quán)利要求1中相應特征表述為“支承件構(gòu)成為使得磁體組從徑向設(shè)置于支承件內(nèi)部”。專利權(quán)無效宣告請求人與專利權(quán)人均認可公開文本中權(quán)利要求1的表述為國際申請文件權(quán)利要求1的真實意思表示，即公開文本中權(quán)利要求1的內(nèi)容屬于原始申請文件記載的內(nèi)容。

     在專利權(quán)無效宣告請求程序中，請求人認為，授權(quán)公告的權(quán)利要求1將原始公開文本中記載的“從徑向內(nèi)側(cè)”中的“內(nèi)側(cè)”刪除，修改后“從徑向”不僅包括了“從徑向內(nèi)側(cè)”設(shè)置，還包括了“從徑向外側(cè)”設(shè)置，超出了原始申請文件中記載的“從徑向內(nèi)側(cè)”的范圍。

      專利權(quán)人認為，說明書以及實施例中僅記載了“從徑向內(nèi)側(cè)”安裝的方式，從徑向外側(cè)無法完成實施例的技術(shù)方案，具體從哪個方向安裝本領(lǐng)域技術(shù)人員需要根據(jù)具體結(jié)構(gòu)進行選擇，修改后的權(quán)利要求1已經(jīng)排除了從徑向外側(cè)安裝的情形。

     經(jīng)查，涉案專利背景技術(shù)部分記載了現(xiàn)有技術(shù)的帶和胎面鼓“通過若干平行、細長的支承件來限定鼓表面，其中這些支承件中的每一個都具有許多磁體。將支承件以可分離的方式連接在鼓上和具有細長的凹槽的徑向外部處，其中磁體位于盤狀的鋼支承體的中間。磁體被粘接在支承體內(nèi)，同時支承體也被粘接在凹槽內(nèi)”，以及“這些帶和胎面鼓以高速旋轉(zhuǎn)，這樣就在支承體和磁體上造成了相當大的離心力。由于磨損/疲勞造成的不牢靠的粘接可能或不可能發(fā)生?？赡軙l(fā)生的是，包括支承體在內(nèi)的磁體從鼓上脫落或者從鼓上被甩出。這將會造成大的安全危害。本發(fā)明的目的就在于對此進行改進?！卑l(fā)明內(nèi)容部分記載了“與上述公知的帶和胎面鼓相比，磁體組從與支承面相對的內(nèi)側(cè)布置在支承件內(nèi)。因此，就阻止了磁體在徑向向外方向上發(fā)生運動，從而它們不會意外地與鼓分離”。實施方式部分記載了兩個具體的實施例，其文字描述以及附圖中均明確表達了支承件的徑向外側(cè)形成阻擋結(jié)構(gòu)，磁體組只能從徑向內(nèi)側(cè)插入支承件內(nèi)的技術(shù)內(nèi)容。

      合議組認為，雖然授權(quán)公告的權(quán)利要求1的表述與公開文本不同，然而，說明書背景技術(shù)部分記載了現(xiàn)有技術(shù)中磁體從徑向外側(cè)被粘接在支承件的凹槽內(nèi)，導致磁體從鼓上脫落或者從鼓上被甩出，涉案專利的目的就在于對此進行改進。說明書發(fā)明內(nèi)容部分記載了“與上述公知的帶和胎面鼓相比，磁體組從與支承面相對的內(nèi)側(cè)布置在支承件內(nèi)，因此，就阻止了磁體在徑向向外方向上發(fā)生運動，從而它們不會意外地與鼓分離”，并且具體實施方式部分記載了兩個實施例，磁體組均只能通過“從徑向內(nèi)側(cè)”的方式布置在支承體內(nèi)。可見，涉案專利的發(fā)明點在于將磁體組“從徑向內(nèi)側(cè)”設(shè)置在支承件內(nèi)，其為涉案專利解決其技術(shù)問題、實現(xiàn)其發(fā)明目的所必需的。結(jié)合說明書記載以及附圖，專利權(quán)人在說明書中所要表達的技術(shù)信息是唯一的、清楚的，而采用磁體組“從徑向外側(cè)”設(shè)置的方式與其發(fā)明目的和采用的技術(shù)手段相悖，本領(lǐng)域技術(shù)人員在通讀完說明書后，能夠認定權(quán)利要求1中記載的“磁體組從徑向設(shè)置于支承件內(nèi)部”的表述，是指“從徑向內(nèi)側(cè)”設(shè)置的情形，并不包含“從徑向外側(cè)”設(shè)置的技術(shù)方案。在此基礎(chǔ)上，權(quán)利要求的修改符合專利法的相關(guān)規(guī)定。

      權(quán)利要求保護范圍的理解貫穿于專利申請、審查、確權(quán)等整個專利生命周期中，其是準確界定專利申請或?qū)＠募?quán)利邊界、正確適用法律法規(guī)對其進行評價的前提。對權(quán)利要求的理解應該是將其放置于說明書記載的產(chǎn)生背景和前提下，以本領(lǐng)域技術(shù)人員的身份客觀合理地認定其保護范圍，不宜僅根據(jù)其文字的語義含義而做出脫離發(fā)明本身技術(shù)要求的判斷。當權(quán)利要求涉及修改時，也應按照如上之理念正確理解修改后的權(quán)利要求的保護范圍，使之與原申請文件記載的技術(shù)信息相比較，判斷是否增加了新的技術(shù)信息，以及進一步判斷修改是否超出了原申請文件記載的范圍。